हाइड्रोफ्लोरिक एसिड (HF)
उत्पाद विवरण
प्रदान की गई विशिष्टताएँ
पारदर्शिता तरल सामग्री ≥ 35%-55%
(अनुप्रयोग का दायरा संदर्भ 'उत्पाद उपयोग')
हाइड्रोजन फ्लोराइड गैस पानी में घुलनशील है, और इसके जलीय घोल को हाइड्रोफ्लोरिक एसिड कहा जाता है। उत्पाद आमतौर पर 35% -50% हाइड्रोजन फ्लोराइड गैस जलीय घोल होता है, उच्चतम सांद्रता 75% तक पहुँच सकती है, रंगहीन स्पष्ट धुएँ के तरल के लिए। हवा में तीखी, अस्थिर, सफेद धुएँ की गंध आती है। यह एक मध्यम शक्ति वाला अकार्बनिक एसिड है जो अत्यधिक संक्षारक होता है और कांच और सिलिकेट को गैसीय सिलिकॉन टेट्राफ्लोराइड बनाने के लिए खराब कर सकता है। यह धातुओं, धातु ऑक्साइड और हाइड्रॉक्साइड के साथ मिलकर विभिन्न लवण भी बना सकता है, लेकिन इसका प्रभाव हाइड्रोक्लोरिक एसिड जितना मजबूत नहीं होता है। सोना, प्लैटिनम, सीसा, पैराफिन और कुछ प्लास्टिक इसका उपयोग नहीं कर सकते हैं, इसलिए कंटेनर बनाए जा सकते हैं। हाइड्रोजन फ्लोराइड गैस आसानी से (HF) 2 (HF) 3· होमोचेन अणुओं को बनाने के लिए पॉलीमराइज़ हो जाती है, और तरल अवस्था में, पॉलीमराइज़ेशन की डिग्री बढ़ जाती है। सीसा, मोम या प्लास्टिक से बने कंटेनर में स्टोर करें। यह अत्यधिक विषैला होता है और त्वचा के संपर्क में आने पर अल्सर हो सकता है।
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उत्पाद पैरामीटर
7664-39-3
231-634-8
20.01
अकार्बनिक अम्ल
1.26 ग्राम/सेमी³
पानी में घुलनशील
120(35.3%)
-83.1(शुद्ध)
उत्पाद उपयोग
क्वार्ट्ज रेत अचार
यह हाइड्रोफ्लोरिक एसिड के साथ इलाज किए जाने पर सबसे अच्छा काम करता है, लेकिन उच्च सांद्रता की आवश्यकता होती है। जब सोडियम डाइसल्फ़ाइट के साथ साझा किया जाता है, तो हाइड्रोफ्लोरिक एसिड की कम सांद्रता का उपयोग किया जा सकता है। हाइड्रोक्लोरिक एसिड और हाइड्रोफ्लोरिक एसिड समाधान की एक निश्चित सांद्रता को अनुपात के अनुसार एक ही समय में क्वार्ट्ज मोर्टार में मिलाया गया था; इसे पहले हाइड्रोक्लोरिक एसिड के घोल से भी उपचारित किया जा सकता है, धोया जा सकता है और फिर हाइड्रोफ्लोरिक एसिड से उपचारित किया जा सकता है, 2-3 घंटों के लिए उच्च तापमान पर उपचारित किया जा सकता है, और फिर फ़िल्टर और साफ किया जा सकता है, जो क्वार्ट्ज रेत की सतह पर अशुद्धियों और ऑक्साइड को प्रभावी ढंग से हटा सकता है और क्वार्ट्ज रेत की शुद्धता और गुणवत्ता में सुधार कर सकता है।
धातु सतह उपचार
सतह पर ऑक्सीजन युक्त अशुद्धियों को हटाएँ, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड एक कमज़ोर एसिड है, जो फ़ॉर्मिक एसिड की ताकत के समान है। व्यावसायिक रूप से उपलब्ध हाइड्रोफ्लोरिक एसिड की सामान्य सांद्रता 30% से 50% है। हाइड्रोफ्लोरिक एसिड जंग हटाने की मुख्य विशेषताएँ इस प्रकार हैं:
(1) सिलिकॉन युक्त यौगिकों को भंग कर सकते हैं, एल्यूमीनियम, क्रोमियम और अन्य धातु ऑक्साइड में भी एक अच्छी घुलनशीलता है, आमतौर पर कास्टिंग, स्टेनलेस स्टील और अन्य कार्यक्षेत्रों को खोदने के लिए उपयोग किया जाता है।
(2) स्टील वर्कपीस के लिए, जंग हटाने के लिए कम सांद्रता वाले हाइड्रोफ्लोरिक एसिड का उपयोग किया जा सकता है। 70% सांद्रता वाले हाइड्रोफ्लोरिक एसिड घोल का स्टील पर निष्क्रियता प्रभाव होता है
(3) लगभग 10% की सांद्रता वाले हाइड्रोफ्लोरिक एसिड का मैग्नीशियम और उसके मिश्र धातुओं पर कमजोर संक्षारण प्रभाव होता है, इसलिए इसका उपयोग अक्सर मैग्नीशियम वर्कपीस की नक़्क़ाशी में किया जाता है।
(4) सीसा आम तौर पर हाइड्रोफ्लोरिक एसिड द्वारा संक्षारित नहीं होता है; निकेल में 60% से अधिक सांद्रता वाले हाइड्रोफ्लोरिक एसिड समाधान में मजबूत प्रतिरोध होता है। हाइड्रोफ्लोरिक एसिड अत्यधिक जहरीला और अस्थिर होता है, और इसका उपयोग हाइड्रोफ्लोरिक एसिड तरल और हाइड्रोजन फ्लोराइड गैस के साथ मानव संपर्क को रोकने के लिए किया जाता है, नक़्क़ाशी टैंक सबसे अच्छा सील होता है और इसमें एक अच्छा वेंटिलेशन डिवाइस होता है, और उपचारित फ्लोरीनयुक्त अपशिष्ट जल को डिस्चार्ज किया जा सकता है।
ग्रेफाइट प्रसंस्करण
हाइड्रोफ्लोरिक एसिड एक मजबूत एसिड है जो ग्रेफाइट में लगभग किसी भी अशुद्धता के साथ प्रतिक्रिया कर सकता है, और ग्रेफाइट में अच्छा एसिड प्रतिरोध होता है, विशेष रूप से हाइड्रोफ्लोरिक एसिड का प्रतिरोध कर सकता है, जो निर्धारित करता है कि ग्रेफाइट को हाइड्रोफ्लोरिक एसिड से शुद्ध किया जा सकता है। हाइड्रोफ्लोरिक एसिड विधि की मुख्य प्रक्रिया ग्रेफाइट को हाइड्रोफ्लोरिक एसिड के साथ मिलाना है, और घुलनशील पदार्थों या वाष्पशील पदार्थों का उत्पादन करने के लिए समय की अवधि के लिए अशुद्धियों के साथ हाइड्रोफ्लोरिक एसिड की प्रतिक्रिया करना है, अशुद्धियों को हटाने, निर्जलीकरण और सुखाने के लिए शुद्ध ग्रेफाइट प्राप्त करने के लिए धोने के बाद।
दुर्लभ मृदा खनन के लिए विशेष
निर्जल दुर्लभ मृदा फ्लोराइड की तैयारी विधि जलीय घोल से हाइड्रेटेड दुर्लभ मृदा फ्लोराइड को अवक्षेपित करना है, और फिर फ्लोरिनेटिंग एजेंट के साथ सीधे दुर्लभ मृदा ऑक्साइड को निर्जलित या फ्लोरिनेट करना है। दुर्लभ मृदा फ्लोराइड की घुलनशीलता बहुत कम है, और इसे हाइड्रोफ्लोरिक एसिड का उपयोग करके दुर्लभ मृदा के हाइड्रोफ्लोरिक, सल्फ्यूरिक या नाइट्रिक एसिड समाधान से अवक्षेपित किया जा सकता है (अवक्षेप हाइड्रेटेड फ्लोराइड के रूप में अवक्षेपित होता है)।
टीपीटी-एलसीडी स्क्रीन पतला करना (इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड)
फोटोरेसिस्ट और एज ग्लू के संरक्षण के तहत, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड की सांद्रता को समायोजित किया जाता है, नाइट्रिक एसिड, केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड और हाइड्रोक्लोरिक एसिड की एक निश्चित मात्रा को जोड़ा जाता है, और अल्ट्रासोनिक सहायक स्थितियों को जोड़ा जाता है, नक़्क़ाशी दर स्पष्ट रूप से सुधार हुई है। वैकल्पिक सफाई प्रभावी रूप से सतह खुरदरापन को कम कर सकती है और सफेद सतह संलग्नक की वर्षा को कम कर सकती है। खुरदरी सतह और सफेद सतह आसंजन वर्षा की समस्या हल हो जाती है।
फाइबर संक्षारण
हाइड्रोफ्लोरिक एसिड भरा जंग फोटोनिक क्रिस्टल फाइबर (पीसीएफ)। हाइड्रोफ्लोरिक एसिड को फैलाए गए फोटोनिक क्रिस्टल फाइबर के छिद्रों में भरा जाता है। इसके क्रॉस सेक्शन संरचना को बदलकर, विशिष्ट संरचना वाले फोटोनिक क्रिस्टल फाइबर का विकास किया जाता है और इसकी ऑप्टिकल चालकता बदल जाती है। परिणाम बताते हैं कि छिद्रण जंग की डिग्री की वृद्धि के साथ रिसाव हानि और बिखराव हानि कम हो जाती है, गैर-रेखीय गुणांक स्पष्ट रूप से बढ़ जाता है, कोर मोल्ड का प्रभावी अपवर्तक सूचकांक और क्लैडिंग के समतुल्य अपवर्तक सूचकांक तदनुसार कम हो जाता है, और समूह वेग फैलाव भी बदल जाता है।
